Нанопечатная литография (Nanoimprint lithography) является отличной технологией изготовления интегральных микросхем, однако до этого момента главным ее недостатком являлась слишком высокая стоимость производства трафаретов, по которым осуществляется «печать» чипов. Теперь же, благодаря исследованиям и разработкам инженера Стивена Чоу (Stephen Chou) из Принстонского Университета (Princeton University), процесс изготовления шаблонов можно не только значительно удешевить, но и заметно ускорить. На современном этапе развития нанопечатной литографии широко используются медленные методы изготовления трафаретов при помощи электронного или ионного пучков.
Стивен Чоу же предлагает следующий метод – использование полимера для формирования необходимого «рисунка» на пластине. Полимер в ходе процесса помещается между двумя пластинами, и после сжатия на поверхности пластин остаются углубления, точно соответствующие толщине полимера.
Но не только быстрота и невысокая стоимость являются главными достоинствами метода – при помощи представленной техники можно наносить «рисунок» на поверхности большей площади. Так, если сегодня исследователи оперируют с пластинами площадью всего несколько квадратных миллиметров, то «полимерный» метод позволяет формировать необходимую структуру на площади в несколько квадратных сантиметров. При этом разработчики получаются возможность легко контролировать толщину углублений, значительно повышая точность инструментов для создания новых микросхем.
Исследователи уже подали заявку на приобретение патента, и планируют в ближайшем будущем начать коммерческое использование технологии, продавая лицензии производителям микроэлектронных устройств.
